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行业知识
抛光剂的抛光机理的两种理论
编辑:肇庆市精尔美玻璃科技有限公司   发布时间:2020-10-19

  抛光剂的抛光机理大致可以归纳为两种理论:

  机械去除理论、化学作用理论、热的表面流动理论。

  1机械去除理论

  认为:①抛光是研磨的继续,抛光与研磨的本质是相同的,都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。

  ②由于抛光是用较细颗粒的抛光剂,所以微小切削作用可以在分子范围内进行。由于抛光模与工件表面相互吻合,抛光时切向力特别大,因此使玻璃表面的凹凸结构被切削掉,逐渐形成光滑的表面。

  机械去除理论的主要实验依据:

  A:与研磨一样,零件抛光后重量明显减轻。

  通过实验测得,被抛掉的玻璃颗粒尺寸平均为1~1.2nm。

  B:抛光表面有起伏层和机械划痕

  用氧化铈抛光时,零件表面凹凸层厚度为30~90nm。用氧化铁抛光,凹凸层厚度为20~90nm。

  C:抛光剂的粒度和硬度对抛光速率有重要影响

  实验表明,抛光粉粒度在一定范围内,粒度愈大,抛光速率愈高。

  D:抛光速率与压力、相对速度成线性关系

  E:磨料也能用作抛光剂

  磨料很细而且加工压力很小时,也能作为抛光剂。如碳化硼(B4C)和刚玉(Al2O3),本属磨料,但其粒度直径为0.5μm左右时,也能用于玻璃抛光。

  2化学作用理论

  认为:抛光过程是在玻璃表层、抛光剂、抛光模和水的作用下,发生错综复杂的化学过程。主要是玻璃表面发生的水解过程,是水解生成物——硅酸凝胶薄膜不断生成和不断刮除的过程。