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抛光液成分分类有什么?
编辑:肇庆市精尔美玻璃科技有限公司   发布时间:2021-04-27

  抛光液的主要产品能够按主要成分的不同分为以下几大类:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。

  多晶金刚石抛光液

  多晶金刚石抛光液以多晶金刚石微粉为主要成分,配合高分散性配方,能够在保持高切削率的同时不易对研磨材质产生划伤。

  主要应用于蓝宝石衬底的研磨、LED芯片的背部减薄、光学晶体以及硬盘磁头号的研磨和抛光。

  氧化硅抛光液

  氧化硅抛光液(CMP抛光液)是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

  普遍用于多种材料纳米级的高平整化抛光,如:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精细光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

  氧化铈抛光液

  氧化铈抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度散布平均、硬度适中等特性。

  适用于高精细光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体外表、集成电路光掩模等方面的抛光。

  氧化铝和碳化硅抛光液

  是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液,主要成分是微米或亚微米级的磨料。

  主要用于高精细光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤衔接器等方面的研磨和抛光。